Thứ hai, 15/10/2012 07:41
Bộ phối hợp trở kháng cho bộ nguồn Plasma - 380 KHz (PIM)
Nhóm nghiên cứu thuộc Công ty Cổ phần công nghệ thông tin, viễn thông và tự động hoá dầu khí đã nghiên cứu và phát triển thành công công nghệ sử dụng plasma ở áp suất cao (xấp xỉ áp suất khí quyển), giải quyết được những khó khăn của công nghệ plasma áp suất thấp.
Vấn đề khó khăn khi phát triển công nghệ sử dụng plasma ở áp suất cao là sự phối hợp trở kháng giữa bộ nguồn (RF Generator) và buồng công nghệ (Process chamber). Nhóm nghiên cứu đã chế tạo thành công mẫu thử nghiệm thiết bị phối hợp trở kháng giữa bộ nguồn và buồng công nghệ. Với mẫu thử nghiệm thiết bị phối hợp trở kháng này, nhóm nghiên cứu đã tạo được plasma ở áp suất cao cũng như giảm được công suất phản hồi (reflexed power) phản hồi ngược về nguồn.
Hiện tại, thiết bị phối hợp trở kháng làm việc ở chế độ người vận hành và nhóm nghiên cứu đang phát triển thiết bị phối hợp trở kháng tự động.
Thông tin chi tiết xin liên hệ: Công ty Cổ phần công nghệ thông tin, viễn thông và tự động hoá dầu khí
Tầng 10, Toà nhà Viện Dầu khí, số 173 Trung Kính, Cầu Giấy, Hà Nội - Tel: 04.37722722; Fax: 04.37725942