Thứ tư, 10/04/2024 07:57
Số 4 năm 202455 - 56Download

Chế tạo vi mạch: Công nghệ in khắc nano sẽ soán ngôi công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại?

Đặng Lương Mô

Giáo sư danh dự Đại học HOSEI, Tokyo, Nhật Bản

Cố vấn Đại học Quốc gia TP Hồ Chí Minh

Hiện nay, trong chế tạo vi mạch, công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại (EUV) trong quy trình quang khắc (Lithography) đang chiếm địa vị “độc tôn”. Công ty ASML (Hà Lan) hiện là nhà cung cấp hàng đầu thế giới về thiết bị quang khắc cho ngành công nghiệp bán dẫn. Theo các chuyên gia, một thiết bị phơi sáng của ASML ở mức vài nanomet có giá bán tới 2 tỷ USD. Cho nên, tiền đầu tư cho một nhà máy chế tạo vi mạch tiên tiến ngày nay phải là nhiều tỷ USD chứ không còn là vài trăm triệu USD như trước. Sau đây, chúng ta sẽ cùng tìm hiểu công nghệ in khắc nano (NIL) của Công ty Canon (Nhật Bản) - ứng viên sáng giá cạnh tranh với công nghệ EUV của ASML.

Lượt dowload: 60 Lượt xem: 2035

Đánh giá

X
(Di chuột vào ngôi sao để chọn điểm)